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蒸发源是用来加热膜材使之汽化蒸发的装置。目前所用的蒸发源主要有电阻加热、电子束加热、感应加热、电弧加热和激光加热等多种形式。电阻加热式蒸发源：电阻式蒸发源简单、经济、可靠，可以做成不同的容量、形状并具有不同的电特性。电子枪加热蒸发源：有时很多材料不能用电阻加热的形式蒸发，例如常用于可见光和近红外光学
电阻加热蒸发源优点：1.结构简单、使用方便、造价低廉，因此使用普遍；2.可蒸发蒸发温度小于1500℃的铝、金、银等金属，蒸发一些硫化物、氟化物和某些氧化物。要求：1.蒸发源材料的自身熔点要高；2.饱和蒸汽压要低；3.化学性能要稳定，且具有良好的耐热性，热源变化时，功率密度变化较小；4.蒸发源对膜材料
蒸发镀膜涉及到的相变固-气相变：即升华。在这一过程中，源材料从固态直接转变为气态，而不经历液态。这需要足够的能量的才能发生的，一般用加热的方式可以实现。气-固相变：即冷凝，升华的逆过程。当蒸发出的气态物质遇到冷却的衬底时，它们会凝结在其上，形成固态的薄膜。这是一个从气态到固态的相变过程。什么是蒸汽压
蒸发镀膜是一种常用的薄膜制备技术，使用蒸发源将材料加热至蒸发温度，然后通过蒸发的材料沉积在基材表面形成薄膜。以下是几种常见的蒸发源类型：电子束蒸发源：利用电子束将材料加热至蒸发温度，然后蒸发在基材上。电子束蒸发源具有高温度和高速度的优势，适用于多种材料的蒸发。热阻蒸发源：通过通电使蒸发源中的阻焊丝加
MBE技术是在超高真空条件下，用其组元的分子（或原子）束喷射到衬底上生长外延薄层的技术。现代MBE生长系统的背景真空度可达 1.33×10-10Pa，分子束与分子束以及分子束与背景分子之间不发生碰撞。MBE技术的关键III,V族元素分别加热到温度Ti,Tj形成的束 引入到温度为Ts的衬底上生长薄膜，
反射式高能电子衍射(简称rheed)将能量为10～50keV的单能电子掠射 (1°～3°)到晶体表面，其反射束带有晶体表面信息，并呈现于荧光屏。当入射电子束与晶面簇的夹角θ、晶面间距和电子束波长λ三者之间满足布喇格公式时，则沿此晶面簇对入射束的反射方向有衍射束产生，从而得到表面结构的全部信息。反射式
9月7日下午，常州市市长盛蕾、市委秘书长周承涛、市金融、市工信局一行来我司调研，董事长董国材、技术主管张祥陪同调研。市长一行参观了公司的生产车间以及部分成品设备，董国材博士向市长介绍了公司的创业历程、发展概况以及产品在行业内的应用情况。市长对公司近年来取得的成绩表示肯定，重点询问了公司首台套设备“分
在选择坩埚形状时，个原则是和谐k-cell的加热丝的形状匹配，满足这个前提之后再来考虑其他的方面。这是因为如果形状不匹配，加热就会不均匀，一方面测温不准会影响实验可重复性，另一方面坩埚各个部分热膨胀不均匀可能会导致损坏。接下来再考虑其他方面的问题。原教旨的k-cell想象一个封闭的盒子个封闭的盒子，
11月12日，江苏省人民发布《省关于表彰2021年度江苏留学回国先进个人的决定》（苏政发【2021】73号），授予我司董国材博士“江苏留学回国先进个人”荣誉称号，表彰其作为留学人员代表为我省科技进步和经济社会发展作出的重要贡献。董国材，重大人才工程A类专家、国成仪器（常州）有限公司董事长、江南石墨烯
为加强公司企业文化建设、丰富员工业余文化生活、增进同事间的友谊、开拓视野、陶冶情操。公司于5月20日组织全体员工赴湖南张家界旅游。 5月20日：常州--张家界 当日中午吃完午饭后，正当准备午休时，收到了航班取消的消息针对这种情
