晶圆分子束外延所使用的样品为2-4英寸晶圆。为了保证成膜的均匀性，在生长过程中样品可连续旋转。加热器采用内外层分别加热和控温，保证良好的均匀性。这种MBE主要用于对样品尺寸有一定要求的，面向工业应用的生产和研发。

● 加热器为内外环加热，温度一致性好

● 样品连续旋转，蒸镀均匀

● 操作方便，可快速学会使用

● 可靠性好，能保证长时间稳定工作

● 配件、材料选择考究保证极低的本底真空

△ 可定制功能：

● 腔体结构、传样机构，泵组、真空规及其品牌型号

● 样品尺寸

● 样品操作台行程

● 蒸发源口径、温度、加热方式和数量

● 快速进样室进样和存样机构的样品数量

● 可扩展反射式高能电子衍射仪、红外测温仪、膜厚仪、气源等

● 程序控制功能

● 腔体可做无磁处理

晶圆分子束外延系统（Wafer MBE）